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光刻机是芯片制造的核心设备，直接影响半导体的制程精度和产能。最新的光刻技术极紫外（EUV）光刻机显著提升了芯片的集成度和性能，成为半导体行业的重要推动力量。了解光刻机技术的进步对理解整个芯片制造产业链至关重要。
光刻机是集成电路制造的核心设备，通过光学和化学原理在硅片上形成微纳图案。先进的光刻机可实现纳米级精度，是推动芯片工艺不断进步的关键。本文将深入探讨光刻机的工作原理、技术演进与行业应用。
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